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《CMPPAD》发布的信息

氧化铈抛光皮现货供应光学加工耗材
发布时间：2025/12/24 12:28:03

氧化铈抛光皮精密抛光专用高耐磨光学级抛光耗材一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满三重抛光更高效：氧化铈磨料通过Ce³⁺/Ce⁴⁺可变价特性，快速完成氧化-络合-剥离循环，相比氧化铝抛光皮，K9玻璃材料去除率达1.55mg/min，提升40%，表面粗 (全文)

516位观众

氧化铈抛光皮定制精密抛光皮供应
发布时间：2025/12/22 11:22:09

氧化铈抛光皮精密抛光专用高耐磨光学级抛光耗材一、产品核心优势：稳定耐用，性价比拉满双效抛光更省心：氧化铈磨料具备独特化学软化+机械剥离特性，相比普通抛光皮，玻璃表面划痕去除效率提升40%，*终表面粗糙度可低至Ra≤0.025μm，呈现完美镜面效果。耐造性行业排前：聚氨酯基材赋予高耐水性、耐高温性 (全文)

507位观众

氧化铈抛光皮批量供应光学元件抛光用
发布时间：2025/12/22 11:21:04

氧化铈抛光皮氧化铈抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：参数类别具体规格说明核心成分聚氨酯基材 + 高纯度氧化铈磨料（CeO₂含量＞85%）磨粒粒径D50控制在0.8-1.4μm，避免划伤工件硬度选择HA70±5 / HA80±5 / HA90±5软硬度按需匹配，硬规格适 (全文)

475位观众

聚氨酯抛光垫、氧化铈抛光皮供应商直供
发布时间：2025/12/22 11:14:18

氧化铈、氧化铝抛光皮氧化铈、氧化铝抛光皮，日本技术，专业生产，厂家直销国内国际优势价格：替代LP66、LP77、LP26、LP57、IC1010、KSP等进口抛光片。主成份含量密度(g/cm3)硬度(JIS-A)CeO223-25%0.4577-80UnfilledUnfilled0.6295Fe2 (全文)

503位观众